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第三届微电子与等离子体技术国际会议

发布日期：2011年09月05日

第三届微电子与等离子体技术国际会议(The 3rd International Conference on Microelectronics and Plasma Technology, ICMAP-2011)于2011年7月4日至7日在大连富丽华大酒店召开。本次会议由中国力学学会、中国真空学会、韩国真空学会、韩国半导体与显示技术协会、日本应用物理学会等离子体电子学分会主办，大连理工大学承办。本次大会主席由大连理工大学王友年教授和韩国高等科学技术研究院Hong-Young Chang 教授共同担任，大会荣誉主席为韩国济州国立大学C. K Choi教授。

    本次大会共收到332篇会议论文摘要，其中安排大会报告3个、特别报告2个、短期课程2个、邀请报告33个、口头报告39个、张贴报告270个。此外， 4家相关的科技公司也派代表参加会议，并展览了他们的科学仪器。来自中国、韩国、日本、美国、澳大利亚、法国、德国、比利时、俄罗斯等10多个国家与地区的297位代表参加本次国际会议，其中国外代表206人，国内代表91人。参会人员主要来自于各国的大学、科研机构，也有少量来自于三星电子、东京电子等相关企业。

该会议是系列国际会议，每两年举办一次。前两次会议分别于2007年及2009年在韩国济州岛召开。该会议的主要议题是：交流低温等离子体技术在半导体工业、显示技术、新能源技术、生命医学等领域中的应用、新型等离子体源等方面的最新研究进展等。

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